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台積電法說4｜魏哲家首度證實德州是選項　曝正與Terafab討論合作

台積電法說4｜魏哲家首度證實德州是選項　曝正與Terafab討論合作

【記者蕭文康／新竹報導】台積電（2330）近期傳出有意在美國德州設廠，包括與Tesla和SpaceX打造的晶片製造廠Terafab合作。對此，台積電董事長魏哲家今天首度證實，台積電考慮在亞利桑那州以外的地方擴產，德州是其中一個選項，也透露已派團隊去德州進行評估，也會與Terafab溝通，只是目前還在討論中，至於營運模式「我們仍在討論中，我只能先這麼說」。
2026/10/15 15:29
財經 產業脈動
美光曝已在台投資逾1.6兆元！4大基地加速擴產　台中新廠10月啟用封裝HBM

美光曝已在台投資逾1.6兆元！4大基地加速擴產　台中新廠10月啟用封裝HBM

【記者蕭文康／台北報導】台灣美光科技董事長盧東暉今說明美光在台灣過去1年發展與未來展望，其中，台灣美光截至今年6月，在台灣累計投資已超過新台幣1.6兆元，當中又有大約一半是在最近4年內投入。目前為因應AI需求，桃園、苗栗銅鑼、台中及台南四大基地同步擴建，包括台中先進封裝二廠預計10月完成啟用，投入高頻寬記憶體（HBM）封裝。不過，他也認為台灣美光積極擴產也面挑戰，例如設備交付、承攬商人力及特殊材料供應等必須克服。
2026/10/01 12:45
財經 產業脈動
分析｜ASML攜手台積電3巨頭研發12吋High NA光罩　專家揭背後「2大關鍵」

分析｜ASML攜手台積電3巨頭研發12吋High NA光罩　專家揭背後「2大關鍵」

【記者蕭文康／台北報導】ASML（艾司摩爾）8日同時與台積電（2330）、三星及英特爾揭露12吋High NA微影系統導入先進製程量進度，並共同推動轉移升級至12吋光罩，將高數值孔徑極紫外光（High NA EUV）微影技術的價值發揮到極致，包括與台積電合作目標於2031年之前建立12吋光罩試產線，預計於2033年之前實現量產。專家對此分析，AI時代晶片如輝達GPU尺寸持續增大、設計更複雜，進一步凸顯這個限制，因此，業界推動更大尺寸的12吋光罩除了產業協作分攤成本外，也能一次曝光更大面積的晶片圖案，消除拼接需求。
2026/09/12 16:37
財經 產業脈動
ASML與台積電宣布升級至12寸High NA EUV光罩合作　2033年支援量產

ASML與台積電宣布升級至12寸High NA EUV光罩合作　2033年支援量產

【記者蕭文康／台北報導】ASML（艾司摩爾）今分別與台積電（2330）、三星及英特爾揭露12吋High NA微影系統導入先進製程量進度。各方9月7日於BACUS國際光學工程學會(SPIE)先進微影技術研討會前宣布發起產業合作，共同推動轉移升級至12吋光罩，以將高數值孔徑極紫外光（High NA EUV）微影技術的價值發揮到極致，其中與台積電合作目標於2031年之前建立12吋光罩試產線（pilot line）並於2033年之前實現微影系統全面就緒，以支援先進製程量產。
2026/09/08 15:13
財經 產業脈動
ASML揭High NA EUV加速邁向高量產　已有10台投入運作

ASML揭High NA EUV加速邁向高量產　已有10台投入運作

【記者蕭文康／台北報導】ASML在SEMICON TAIWAN2026舉行半導體先進製程科技論壇中揭露，隨著半導體產業持續追求先進製程的微縮極限，High NA EUV（高數值孔徑極紫外光刻技術）正加速邁向高量產（High Volume Manufacturing，HVM）階段，並展現卓越的技術實力及商業應用潛力。其中，EXE系統累計曝光晶圓數已突破135萬片，High NA EUV已有4家客戶共10台裝機並投入運作，另有3台系統正在出貨及裝機中。
2026/09/01 13:52
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